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CRF plasma 等離子清洗機

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等離子清洗設備芯片的引線鍵合有無可替代的優點

等離子清洗設備芯片的引線鍵合有無可替代的優點:
        CRF等離子清洗設備在微電子封裝方面擁有著寬廣的推廣前景。等離子體清洗技術的成功應用在于工藝參數的優化,包含工藝壓力、等離子體刺激次數和輸出功率、時間和工藝氣體類型、反應腔和電極的配置以及待清洗工作部件的位置。在半導體后生產過程中,鑒于指紋、焊劑、焊料、劃痕、污漬、污垢、灰塵、樹脂殘留、自熱氧化、有機質等,在設備和材料表面響封裝生產和產品質量,采用等離子清洗設備技術,能方便的清除生產過程中形成的分子水平污染,顯著提升封裝的可制造性、可靠性和成品率。

等離子清洗設備

       在芯片封裝生產中,等離子清洗設備工藝的選擇在于后續工藝對材料表面的要求、材料表面的原始特性、化學成分和表面污染物的性質。
        芯片、微電子機械系統MEMS在封裝中,基板、底座和芯片之間有大量的電線鍵,這仍然是實現芯片焊盤與外部電線連接的重要途徑。如何提高電線鍵的強度一直是行業研究中的一個問題。射頻驅動低壓等離子清洗設備技術是一種有效、低成本的清洗方法,可有效清除氟化物、鎳氫氧化物、有機溶劑殘留、環氧樹脂溢出、材料氧化層、等離子體清洗和鍵合,將顯著提升鍵合強度和鍵合電線張力的均勻性,對提高電線鍵合強度擁有著重要作用。電線鍵合前,氣體等離子體技術可用于清潔芯片觸點,提高組合強度和輸出。

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