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等離子清洗機設(shè)備放電電壓對等離子體CH4臨H2轉(zhuǎn)化反應(yīng)的影響：
隨著放電電壓的增大甲烷的轉(zhuǎn)化率和C2烴收率呈上升趨勢，C2烴選擇性先增大后減小，在等離子清洗機設(shè)備放電電壓為16kV時C2烴選擇性大。據(jù)文獻報道，等離子清洗機設(shè)備等離子體條件下，CH活性物種的發(fā)射強度變化直接受工作氣壓和放電參數(shù)的影響。
由CH活性物種的強弱可探知甲烷在等離子體中裂解的程度，因為同一條譜線的強度和該成分的粒子密度成正比，所以通過譜線的相對強度隨各工藝參數(shù)的變化可推測該粒子數(shù)隨相應(yīng)工藝參數(shù)的變化。提高放電電壓，等離子清洗機設(shè)備CH活性物種的發(fā)射強度隨放電電壓的增加而增強。
分析其原因是在氣體流速不變的條件下，輸入電壓低時電子受電場加速獲得的能量低，同時低能態(tài)下總的碰撞橫截面積也較低，CH4與高能電子的碰撞概率小，從而導(dǎo)致生成的活性物種少。隨著放電電壓的升高，電離率和電子密度增加，同時高能電子與CH4碰撞橫截面也隨之增大，意味著碰撞概率加大，生成的CH活性物種增多。同時也注意到，在實驗過程中，隨著電壓的增加，反應(yīng)器壁上的積碳有所增加。
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