誠(chéng)峰智造crf等離子設(shè)備可以用C4F汽體進(jìn)行蝕刻？
       誠(chéng)峰智造crf等離子設(shè)備的性能主要包括清洗、活化、接枝（沉積）及蝕刻，完成這類(lèi)性能除對(duì)放電方式和電極結(jié)構(gòu)有要求外，工藝汽體的選擇也是非常重要的，特別是蝕刻性能。那么誠(chéng)峰智造crf等離子設(shè)備完成蝕刻性能通常會(huì)用什么汽體，又有哪些常規(guī)注意事項(xiàng)呢？今天我們就為大家分享一下誠(chéng)峰智造crf等離子設(shè)備相關(guān)知識(shí)，供大家借鑒。

一、誠(chéng)峰智造crf等離子設(shè)備概述
       蝕刻通常又會(huì)被稱(chēng)為蝕刻、咬蝕、凹蝕等，蝕刻效用是利用典型的汽體搭配生成有著明顯蝕刻性的氣相等離子體與物體表面的物質(zhì)基材發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成其他比如CO,CO2,水等汽體，進(jìn)而完成蝕刻的目的。完成蝕刻所使用的汽體大多為含氟汽體，應(yīng)用最多的是C4F。四氟化碳C4F是1種無(wú)色，無(wú)味的汽體，無(wú)毒性、難燃，但在濃度較高的時(shí)有著麻痹效用，所以在工業(yè)應(yīng)用時(shí)儲(chǔ)存的容器為專(zhuān)用高壓氣瓶，所使用的減壓閥也為專(zhuān)用減壓閥。
        C4F電離后，會(huì)產(chǎn)生1種含有氫氟酸成分的蝕刻氣相等離子體，能在各種有機(jī)表面上完成蝕刻和去除物質(zhì)，在晶圓制造、線路板制造、太陽(yáng)能電池板制造等行業(yè)廣泛應(yīng)用。
二、誠(chéng)峰智造crf等離子設(shè)備輝光放電顏色
       真空誠(chéng)峰智造crf等離子設(shè)備電離四氟化碳汽體產(chǎn)生的等離子體顏色為乳白色，肉眼觀察類(lèi)似于稀薄的乳白色霧氣，辨識(shí)度很高，非常容易與其它氣體區(qū)分。