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CRF plasma 等離子清洗機

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20年專注等離子清洗機研發(fā)生產(chǎn)廠家

深圳市誠峰智造誠峰crf真空等離子清洗機的清洗工藝和產(chǎn)品特性

深圳市誠峰智造誠峰crf真空等離子清洗機的清洗工藝和產(chǎn)品特性:
1、被清洗過的工件進入真空型并加以固定,啟動運轉(zhuǎn)裝置,開始放氣,使真空室真空程度達到十帕左古的標(biāo)準真空度。通常的放氣時間只需幾分鐘;
2、將等離子清洗氣體引入真空室,并保持氣室壓力穩(wěn)定。按清潔材料不同,可以分別采用氧、氬、氫、氮、氟等氣體;
3、在真空室中的電極與接地裝置間施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并通過輝光放電發(fā)生等離子化,形成等離子體。將處理工件完全包覆在真空室中產(chǎn)生的等離子體,開始清洗操作,一般的清洗環(huán)節(jié)會持續(xù)數(shù)十秒至數(shù)十分鐘;
4、清洗結(jié)束后,切斷電源,用真空泵吸氣汽化污垢。

真空等離子清洗機

誠峰crf真空等離子清洗機產(chǎn)品特性:
1.環(huán)保技術(shù):等離子體法為氣-固相干式反應(yīng),不需消耗水資源,不需添加化學(xué)試劑,對環(huán)境無污染;
2.適用性:處理時不分被處理的對象的基材類型,例如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大部分聚合物可以很好地處理;
3.溫度低:接近常溫,尤其適合聚合物材料,比電暈、火焰法保存時間長,表面張力高;
4.功能強:只涉及聚合物材料的淺表面(十-1000A),可以賦予它一種或多種功能,同時保持材料本身的特性;
5.成本低:設(shè)備簡單,操作維護容易,可連續(xù)運行,往往用幾瓶氣就能替代幾千公斤的清洗液,所以清洗效果比濕法清洗要小得多;
6.全過程控制工藝:通過PLC設(shè)定所有參數(shù),數(shù)據(jù)記錄,做好質(zhì)量控制;
7.工件的幾何尺寸無限:大的或小的、簡單的或復(fù)雜的,都可以處理的部件或紡織品。

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誠峰智造——專注等離子研發(fā)20年

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