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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

等離子清洗產(chǎn)品前要做哪些準(zhǔn)備呢

      等離子清洗機(jī)設(shè)備的工作原理：以氣體為清洗介質(zhì)，能有效地避免液體清洗介質(zhì)對清洗物體的二次污染。通過外置真空泵，清洗腔體內(nèi)的等離子體沖刷待清洗物體的表面，可以在短時間內(nèi)徹底清洗有(機(jī))污染物。同時污染物被真空泵抽走，從而達(dá)到清洗的目的。在特定的環(huán)境中，其屬性可以根據(jù)不同的材料表面而改變。等離子體作用于材料表面，重組材料表面的分子化學(xué)鍵，形成新的表面特性。

等離子清洗設(shè)備
      等離子清洗設(shè)備的基本構(gòu)造：
      根據(jù)使用的需要，可以選擇多種結(jié)構(gòu)的等離子清洗設(shè)備，也可以選擇無用氣型，通用的調(diào)節(jié)裝置包括真空室、真空泵、高頻電源、接觸器、氣體輸入系統(tǒng)、工作輸送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等。真空泵一般采用旋轉(zhuǎn)泵，高頻電源一般采用13.56兆赫無線電波，工作流程如下:
1.清潔后的工件送入真空室并固定好，啟動運轉(zhuǎn)裝置，開始排氣，使真空室的真空度達(dá)到10帕標(biāo)準(zhǔn)真空。通常的排氣時間大約2毫秒。
2.向真空室中注入等離子清洗用的氣體，并保持壓力為100pa。根據(jù)不使用的清潔材料，可以選擇氧氣、氫氣或氮氣。
3.對真空室電極和接地裝置之間施加高頻電壓，會引起氣體破裂，產(chǎn)生離子化作用，使電漿通過輝光放電產(chǎn)生電漿。將真空室產(chǎn)生的等離子體完(全)覆蓋在處理后的工件上，并開始清洗操作。一般的清理過程會持續(xù)幾十秒到幾分鐘。
4.清潔完畢后，切斷高頻電壓，把氣體和蒸發(fā)的污物排出，同時把氣體壓入真空室內(nèi)，使空氣壓力升高，使空氣壓力上升。

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