與以往有機(jī)溶劑濕法清洗工序相較，誠峰智造干式等離子體清洗的優(yōu)點(diǎn)是什么？
       等離子體是氣體分子在真空、放電和其它獨(dú)特場合所產(chǎn)生的物質(zhì)。等離子體清洗、蝕刻等離子體裝置是在密封容器中設(shè)置2個(gè)電極產(chǎn)生電磁場，用真空泵實(shí)現(xiàn)相應(yīng)的真空度，伴隨著氣體越來越薄，分子問距和分子或離子白由運(yùn)動(dòng)距離越來越長，受磁場作用，碰撞產(chǎn)生等離子體，同時(shí)發(fā)光。等離子體在電磁場中移動(dòng)，并轟擊被處理物體的表面，以達(dá)到表面處理、清潔和蝕刻的效果。

等離子體清洗具有以下優(yōu)點(diǎn)：
1.等離子體清洗后清洗對象干燥，無需干燥即可送至下道工序。可提高整個(gè)工序流水線的處理效率；
2.無線電波范圍內(nèi)高頻所產(chǎn)生的等離子體不同于激光等直射光。等離子體的方向性不強(qiáng)，可以深入物體的微孔和凹陷內(nèi)部完成清洗任務(wù)，不需要過多考慮被清洗物體的形狀。
3.干式等離子體清洗的真空度約為100Pa，這種清潔條件很容易實(shí)現(xiàn)。因此，該裝置的設(shè)備成本不高，清洗過程不需要使用昂貴的有機(jī)溶劑，使整體成本低于傳統(tǒng)的濕清洗工序；
4.干式等離子體清洗使用戶能夠遠(yuǎn)離有害溶劑對人體的危害，避免濕式清洗中容易清洗物體的問題。